Πλάσμα (φυσική): Διαφορά μεταξύ των αναθεωρήσεων
Περιεχόμενο που διαγράφηκε Περιεχόμενο που προστέθηκε
αναδιάρθρωση, βελτίωση με βάση τα ως τώρα περιεχόμενα του λήμματος |
|||
Γραμμή 7:
* Πλάσμα είναι η κατάσταση της ύλης η οποία αποτελείται από ελεύθερα ιόντα και ηλεκτρόνια.
Ο ένας ορισμός θεωρεί το πλάσμα μορφή [[αέριο|αερίου]], ενώ ο άλλος το κατατάσσει ως την ''τέταρτη κατάσταση της ύλης'' (οι υπόλοιπες τρεις είναι η [[στερεό|στερεή]], η [[υγρό|υγρή]] και η [[αέριο|αέρια]]). Το πλάσμα διαφέρει από ένα μη-ιονισμένο αέριο. Σχηματίζεται όταν ένα αέριο γίνει πολύ θερμό με αποτέλεσμα [[Ηλεκτρόνιο|ηλεκτρόνια]] να δραπετεύσουν από το άτομό τους και να γίνονται ελεύθερα ([[Ελεύθερο ηλεκτρόνιο|ελεύθερα ηλεκτρόνια]]). Το πλάσμα συνίσταται επομένως από ελεύθερα ηλεκτρόνια και [[ιόν|ιόντα]] (άτομα ή μόρια που έχουν χάσει ή αποκτήσει ένα ή περισσότερα ηλεκτρόνια), και είναι υπεριονισμένη κατάσταση της ύλης. Το πλάσμα μπορεί να προκύψει από ένα αέριο στο οποίο έχει δοθεί αρκετή [[ενέργεια]] για να αποχωριστούν τα άτομα από τα [[ηλεκτρόνιο|ηλεκτρόνιά]] τους ([[ιονισμός]]) ώστε να παραχθεί ένα νέφος από [[ιόντα]] και ηλεκτρόνια.
==Πού συναντάται==
Πλάσμα συναντάται στον [[Ήλιος|Ήλιο]], στους [[αστέρας|αστέρες]], στον μεσοαστρικό χώρο, στην [[ιονόσφαιρα]], τους [[Αστραπή|κεραυνούς]] κλπ. Ο [[ηλιακός άνεμος]] επίσης αποτελείται από πλάσμα. Σε συνθήκες εργαστηρίου δημιουργείται σε [[θερμοπυρηνικός αντιδραστήρας|θερμοπυρηνικούς αντιδραστήρες]], σε σωλήνες φωτισμού που περιέχουν αέρια όπως [[νέον]] σε χαμηλή πίεση κλπ
== Ιδιότητες ==
Σε αντίθεση με τα αέρια το πλάσμα είναι καλός αγωγός του ηλεκτρισμού. Λόγω των ηλεκτρικά φορτισμένων σωματιδίων που το απαρτίζουν, το πλάσμα συμπεριφέρεται διαφορετικά από ένα αέριο, για παράδειγμα όταν εφαρμόζονται σε αυτό [[ηλεκτρομαγνητικό πεδίο|ηλεκτρομαγνητικά πεδία]]. Έτσι ο όγκος και το σχήμα του καθορίζεται σημαντικά από εφαρμοζόμενα ηλεκτρικά και μαγνητικά πεδία (από τα οποία συνήθως και δημιουργείται).
Το πλάσμα εκδηλώνει διαφορετικές [[θερμοδυναμική|θερμοδυναμικές]] ιδιότητες από τις αντίστοιχες των αερίων. Η θερμοκρασία, για παράδειγμα, στην οποία τα σωματίδια του πλάσματος αποκτούν συγκεκριμένη κατανομή ταχυτήτων εξαρτάται από τον βαθμό ιονισμού (και κατ' επέκταση την ένταση του εφαρμοζόμενου ηλεκτρικού πεδίου που προκαλεί τον ιονισμό, ή την ένταση της ακτινοβολίας αν αυτή είναι η αιτία του ιονισμού). Η παραγωγή πλάσματος με εφαρμογή ηλεκτρικού πεδίου έχει σημαντικές τεχνολογικές εφαρμογές, καθώς τεχνολογικές διεργασίες που μέχρι τώρα πραγματοποιούνταν με χρήση μη-ιονισμένων-αερίων σε πολύ υψηλές θερμοκρασίες μπορούν πλέον να γίνονται με χρήση πλάσματος σε χαμηλότερες θερμοκρασίες. Το οικονομικό όφελος είναι προφανές, καθώς δαπανάται λιγότερη ενέργεια. Επίσης, διεργασίες ανέφικτες με χρήση αερίων γίνονται τεχνικά δυνατές με χρήση πλάσματος<ref>[http://www.wat.edu.pl/review/optor/12(1)1.pdf Thin film silicon solar cells]</ref><ref>[http://www.ipme.ru/e-journals/MPM/no_2100/schropp/schropp.pdf Hot wire CVD]</ref><ref>[http://www.crystec.com/tridepe.htm Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition]</ref><ref>[http://www.plasmatechsystems.com/about/pubs/Plasma%20Processes%20Polytetrafluoroethylene.pdf Plasma Processes of Polytetrafluoroethylene]</ref>.▼
▲Το πλάσμα εκδηλώνει διαφορετικές [[θερμοδυναμική|θερμοδυναμικές]] ιδιότητες από τις αντίστοιχες των αερίων. Η θερμοκρασία, για παράδειγμα, στην οποία τα σωματίδια του πλάσματος αποκτούν συγκεκριμένη κατανομή ταχυτήτων εξαρτάται από τον βαθμό ιονισμού (και κατ' επέκταση την ένταση του εφαρμοζόμενου ηλεκτρικού πεδίου που προκαλεί τον ιονισμό, ή την ένταση της ακτινοβολίας αν αυτή είναι η αιτία του ιονισμού). Η παραγωγή πλάσματος με εφαρμογή ηλεκτρικού πεδίου έχει σημαντικές τεχνολογικές εφαρμογές, καθώς τεχνολογικές διεργασίες που μέχρι τώρα πραγματοποιούνταν με χρήση μη-ιονισμένων-αερίων σε πολύ υψηλές θερμοκρασίες μπορούν πλέον να γίνονται με χρήση πλάσματος σε χαμηλότερες θερμοκρασίες. Το οικονομικό όφελος είναι προφανές, καθώς δαπανάται λιγότερη ενέργεια. Επίσης, διεργασίες ανέφικτες με χρήση αερίων γίνονται τεχνικά δυνατές με χρήση πλάσματος<ref>[http://www.wat.edu.pl/review/optor/12(1)1.pdf Thin film silicon solar cells]</ref><ref>[http://www.ipme.ru/e-journals/MPM/no_2100/schropp/schropp.pdf Hot wire CVD]</ref><ref>[http://www.crystec.com/tridepe.htm Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition]</ref><ref>[http://www.plasmatechsystems.com/about/pubs/Plasma%20Processes%20Polytetrafluoroethylene.pdf Plasma Processes of Polytetrafluoroethylene]</ref>.
== Παραπομπές - σημειώσεις ==
| |||